用于表面相互作用測量和光學/干涉測量技術的超光滑化學功能硅表面。 H. Dobbs, Y. Kaufman, J. Scott, K. Kristiansen, A. Schrader, S. Chen, P. Duda III, J. Israelachvili. 先進工程材料 (2018) 20 (2), 1700630.

表面力裝置(SFA)技術的最新進展。 J.以色列,Y。明,我。阿克布盧特我是阿利格。卡佛。格林,K。克里斯蒂安森。邁耶,不。佩斯卡,凱。羅森博格和H。曾先生, 報告 (2010) 73, 1-16.

表面之間的粘附力和短程力:用于測量表面力的新設備[SFA3]。 J.N.以色列切維利和P.M.麥基根, J. Mater. Res. (1990) 5, 2223.

利用多重光束干涉法研究薄膜。 J. Israelachvili, J. Colloid Int. Sci. (1973) 44, 259.

利用費科光學成像表面的光學裝置。直接光學觀察是一個簡單的選擇,其他類型的顯微鏡和光譜儀(包括X光、紅外和熒光)也是如此。

擴展的表面力裝置.第三編高速干涉距離測量。 扎奇先生。、J.萬尼克,還有M。休伯格, 審查科學儀器 . (2003) 74 (1) 260-266.

用白光干涉法在反射中擴展表面力裝置的能力。 Connor, J.N. and R.G. Horn, 審查科學儀器 (2003) 74 (11) 4601-4606.

表面力裝置中多束干涉測量的地形信息。 M.休伯格,G。盧恩戈。以色列 朗米爾 (1997) 13, 3839–3848.

電化學表面力裝置:表面粗糙度、靜電表面電位和陽極氧化物生長對水溶液中不同表面相互作用力和摩擦力的影響。 巴爾提納,馬庫斯;班基,澤維爾;克里斯蒂安森,凱;格林,喬治;以色列,雅各布。 朗米爾 (2012) 28 (36) 13080–13093.

界面力與電化學反應的交叉。 雅各布·恩。凱·克里斯蒂安森,馬太福音。蓋比,李東武,斯蒂芬。多納爾德松。,薩勒巴,邁克爾五世。拉普,澤維爾·班奎伊,馬庫斯·瓦爾提納,景羽, Jpcb (2013) 177 (51) 16369?16387.

表面干涉與明確的地形在SFA。 古普塔·拉普·弗雷謝特, J. Colloid. & Interf. Sci. , (2013), 412, 82-88.

水介質中聚合物表面啟動的自愈合。 B.安高寶,李東武,雅各布。以色列司法部赫伯特·維特, 自然材料 (2014) 13 867-872.

干涉法分析受限流體的折射率分布。 丹尼爾。基恩和托尼婭。庫爾, 分析化學。 , (2014), 86, 11860-11867.

實時MBI顯示在濕度選擇/解吸作用下金屬有機框架的復雜變形。 特奧多羅斯·班波斯,佛祖拉特納·施雷莎,胡慶運,喬治·根切夫,馬庫斯·巴爾蒂納, J. Phys. Chem. (2015), 119, 16769-16776.

用MBI法實時監測鋁裂紋腐蝕情況及其抑制作用。 佛祖拉特納施雷莎,胡慶運,特奧多羅斯拜姆波薩,凱克里斯蒂安森,雅各布N。以色列,和馬庫斯, J. Electrochem. Soc. (2015) 162 (7) C327-C332.8